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电子级大宗气体中部分气体的作用介绍

浏览:    发布时间:2021/9/30 11:05:37

用于制造半导体的主要的大宗气体是氮气,氢气,氩气,氦气,氧气和二氧化碳。氦气:He是第二轻的元素和冷的液体,用于电子制造中的冷却,等离子处理和泄漏检验。氢气:由于更大的工厂和更高的工艺强度需求,H?的使用量正在增加。它用于硅和硅锗的外延沉积和表面处理。随着EUV(极紫外线)的转变,氢气的需求量将继续增长。联华林德已经准备就绪,可以通过压缩气体或液体形式(仅在美国和欧洲)提供氢气,或在现场通过蒸气形成或电解制备氢气。氮气:N?是目前半导体制造中使用多的气体。它用于吹扫真空泵,排放系统,还可以用来为一种工艺气体。在大型的,先进的工厂,氮气的消耗量可达每小时5万立方米,这使得工厂需要成本效益好,低能耗的现场氮气发生器。