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昆山市华民气体供应有限公司
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特种气体
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四氟甲烷

  • 时   间 2016/3/19 15:19:51
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主要用途


1.用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体,用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。2.是目前微电子工业中用量很大的等离子蚀刻气体,四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。3.用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术。

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